삼성전자 중국 시안 반도체공장 (사진: 연합뉴스)

삼성전자가 중국 산시성 시안반도체 공장에 80억달러(약 9조5000억원)를 추가 투자하기로 했다.

13일 업계와 현지 언론 등에 따르면 삼성전자 강봉용 부사장은 시안시 위원회 왕하오 서기 등을 만나 "80억달러 규모의 (시안 제2공장) 2단계 투자가 순조롭게 시작됐다"고 말했다.

현지 언론 시안일보는 "제2공장 1단계 투자는 내년 3월 본격 가동될 예정이고, 2단계 투자는 2021년 하반기 준공 예정"이라고 전했다.

시안 공장은 삼성전자의 유일한 해외 메모리 반도체 생산기지로, 삼성전자는 2017년 시안 반도체 2공장에 3년간 총 70억달러를 투자하겠다고 밝힌 바 있다. 이번 80억달러는 기존 70억달러에서 추가로 투자되는 금액이다. 올해 말까지 완공될 예정인 2공장에서는 3차원 구조로 만든 V-낸드플래시가 양산될 예정이다. 

착공 당시 삼성전자는 "낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일·IT 업체들의 생산기지가 집중된 중국 시장에서 제조 경쟁력을 강화하고 중국 시장 요구에 원활히 대응할 수 있을 것"이라고 밝혔다.

앞서 리커창 총리는 지난 10월 시안 공장 방문해 시찰하기도 했다. 일각에선 리 총리가 삼성 공장 방문으로 미국을 견제하는 한편 한국 기업에 우호적인 메시지를 전달했다는 해석이 나오기도 했다. 업계에선 이번 추가 투자 공식화로 고고도 미사일 방어체계(THAAD·사드) 갈등 이후 시작된 중국 내 부진을 극복할 것으로 보고있다.

홍준표 기자 junpyo@pennmike.com

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